극자외선(EUV)용 포토레지스트, 불화수소, 불화폴리이미드. 일본이 2019년 한국 수출 규제 카드를 꺼내 든 반도체·디스플레이 핵심 소재 3종이다. 이 중 포토레지스트는 불화수소, 불화폴리이미드와 달리 국산화가 더뎠다. 포토레지스트에서 큰 비중을 차지하는 용제(솔벤트)를 초고순도로 생산하는 게 어려웠기 때문이다.
코스닥시장 상장 중견기업 켐트로닉스가 이 난제를 해결해 주목된다. 김응수 켐트로닉스 대표는 “EUV 노광 공정에서 핵심 재료인 포토레지스트를 구성하는 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세트산(PGMEA)을 순도 99.999%(5N)로 시생산하는 데 성공했다”며 “2024년 상반기부터 본격 양산하기 위한 고객사의 품질승인 작업이 진행 중”이라고 7일 밝혔다.
이 회사는 PGMEA 개발을 마치고 대량생산을 위해 지난해 240억원을 들여 연 1만t의 생산능력을 확보했다. 추가로 올해 170억원을 투자해 생산능력을 2만5000t 규모로 확대할 계획이다.
PGMEA는 반도체 제조에 사용되는 대표적인 용제다. 반도체용 시너로 제조돼 노광 공정에서 감광 반응이 일어나지 않은 부분에 묻은 감광물질을 씻어내는 역할을 한다. 켐트로닉스는 그간 일본과 대만 등에서 PGMEA를 사와 순도를 높이는 정제 작업을 한 뒤 기업들에 공급했다.
2019년 일본의 반도체 소재 수출 규제가 국산화에 불을 댕겼다. 자체적인 합성·정제 노하우를 앞세워 4년여 만에 5N급 양산을 눈앞에 뒀다. 김 대표는 “금속성 잔류물에 의한 불량을 크게 줄일 수 있다”고 했다.
2022년 9262억원 규모였던 PGMEA 시장은 2024년 1조172억원대로 성장할 것으로 예상된다.
성남=김병근 기자 bk11@hankyung.com
코스닥시장 상장 중견기업 켐트로닉스가 이 난제를 해결해 주목된다. 김응수 켐트로닉스 대표는 “EUV 노광 공정에서 핵심 재료인 포토레지스트를 구성하는 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세트산(PGMEA)을 순도 99.999%(5N)로 시생산하는 데 성공했다”며 “2024년 상반기부터 본격 양산하기 위한 고객사의 품질승인 작업이 진행 중”이라고 7일 밝혔다.이 회사는 PGMEA 개발을 마치고 대량생산을 위해 지난해 240억원을 들여 연 1만t의 생산능력을 확보했다. 추가로 올해 170억원을 투자해 생산능력을 2만5000t 규모로 확대할 계획이다.
PGMEA는 반도체 제조에 사용되는 대표적인 용제다. 반도체용 시너로 제조돼 노광 공정에서 감광 반응이 일어나지 않은 부분에 묻은 감광물질을 씻어내는 역할을 한다. 켐트로닉스는 그간 일본과 대만 등에서 PGMEA를 사와 순도를 높이는 정제 작업을 한 뒤 기업들에 공급했다.
2019년 일본의 반도체 소재 수출 규제가 국산화에 불을 댕겼다. 자체적인 합성·정제 노하우를 앞세워 4년여 만에 5N급 양산을 눈앞에 뒀다. 김 대표는 “금속성 잔류물에 의한 불량을 크게 줄일 수 있다”고 했다.
2022년 9262억원 규모였던 PGMEA 시장은 2024년 1조172억원대로 성장할 것으로 예상된다.
성남=김병근 기자 bk11@hankyung.com
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